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氣體純化設備中高純氣體氬氣純化裝置。氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣體，為了提高硅晶體的質量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個議題。通過對本裝置的使用，氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時，水分也小于1ppm時，制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，這樣就提高了單晶的使用壽命并能達到要求，贏得客戶的滿意和市場的需求。
由于一般液氬汽化后未經過純化處理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有時氣體供應商提供的氬氣超過了此范圍，使用氬氣的客戶不知道其質量，所以往往給生產產品質量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質量如何，只要經過純化裝置的處理后，進入拉晶爐的氬氣，純度始終是恒定的。
凈化則采用了世界先進的凈化材料。其特點有吸附深度好，吸收雜質氣體量大的特點，純度可達99.9999%以上。并安裝了小于1μ的金屬過濾器。保證了氣體粉末的要求。設備中全部容器、管道、閥門均為不銹鋼材質。設備中的主要控制儀表全部采用國內外產品。接頭采用高純接頭,保證了無滲透。外觀設計采用流行顏色及形式,使產品更美觀。設備可根據客戶要求在線加裝微氧分析儀和微量水分析儀使凈化后氣體得到監測。避免了因設備問題的損失。本設備在金屬保護行業、電子、電光源、科研、氣體、分析、醫學等領域以及光譜儀、氣相色譜儀、科學儀器等的配套使用設備，得到了廣泛的應用。
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